Zur Reinigung von Einzelteilen, Baugruppen und Maschinen für den Einsatz in Reinräumen und reinen Bereichen kommt man nicht umhin, Reinigungsmittel einzusetzen, die in der Lage sind, Partikel und filmische Kontaminationen zu entfernen.
Normalerweise geschieht dies mit zugelassenen Reinigungsmedien. Dies können DI-Wasser, Isopropanol oder auch verschiedene Tenside sein, meist in Kombination mit DI-Wasser. Letztendlich stellt sich die Frage, was nach der Reinigung noch auf den technischen Oberflächen an Rückständen vorhanden sein darf. DI-Wasser und Isopropanol verdampfen rückstandslos innerhalb kürzester Zeit, Tenside trocknen ein und verbleiben auf der Oberfläche. Diese Tenside sollten dann auch mit DI-Wasser entfernt werden.
Schaut man in die LifeScience-Branchen, wo es auf die mikrobiologische Reinheit ankommt, besteht die Reinigungsprozedur aus Reinigen, Desinfizieren und die Oberflächen vom Desinfektionsmittel zu reinigen.
In HighTech-Branchen, wie der Halbleiterindustrie und deren Zulieferer, geht man das Risiko, dass die eingesetzten Reiniger (außer Isopropanol) ggf. nicht vollständig von den Oberflächen entfernt werden können, nicht ein. Deshalb ist es in diesen Fällen kategorisch untersagt, von den zugelassenen Medien abzuweichen. Zusätzlich kommt noch hinzu, dass die Verdunstung dieser nicht zugelassenen Reiniger, benachbarte Prozesse durch deren Ausdunstungen negativ beeinflussen können.
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